Tuairiscítear go bhféadfaidh an mhonarcha, áit a dtáirgfear na sliseanna ag baint úsáide as an bpróiseas 2 nm, costas thart ar $ 28 billiún.Go deimhin, beidh costais phróiseas iomlán forbartha agus táirgthe na líne 2 nm níos airde, ós rud é go mbeidh na huirlisí beidh sé níos casta, agus beidh na speisialtóirí is gá níos costasaí. Is féidir uirlisí a bheith ar an slánú amháin AGUS Ó le hintleachta saorga ar féidir leo próisis a bharrfheabhsú agus cabhrú le costais a laghdú.
De réir an ghnólachta comhairliúcháin IBS, chosnódh monarcha leathsheoltóra 2-wafer-in aghaidh na míosa (WSPM) 50nm thart ar $28 billiún, Sin $8 billiún níos mó ná an costas a bhaineann le monarcha 3nm, agus níl ann ach léiriú amháin ar fhás easpónantúil. Is féidir a bheith ag súil leis mar a aistríonn an tionscal go dtí an chéad ghlúin eile de sliseanna.
Le bheith beacht, méadóidh costas sliseanna 2nm thart ar 50% i gcomparáid le próiseálaithe 3nm, rud a chiallaíonn gur mhaith le cuideachtaí Apple, beidh orthu $30 a chaitheamh chun sliseog 300mm amháin a mheaisíniú ar phróiseas N2 TSMC nuair a bheidh sé á rolladh amach sna blianta beaga amach romhainn.
B'fhéidir go bhfuil spás ann le haghaidh ainliú sna figiúirí seo, rud a d'fhéadfadh an costas ard a bhfuiltear ag súil leis a bhaineann le sliseanna nuálaíocha a laghdú. Tá cineálacha cur chuige éagsúla ann ar féidir le cuideachtaí leathsheoltóra a ghlacadh agus cinntí deartha is féidir leo a dhéanamh sna céimeanna réamhthógála, tógála agus oibríochta a athróidh costas deiridh an fab.
Ach, sa bhreis air seo, éilíonn dearadh na micreachiorcaid ar an bpróiseas teicniúil 2 nm speisialtóirí speisialaithe, atá gann faoi láthair. Ina theannta sin, tá méadú ag teacht ar úsáid photolithography, próiseas a úsáidtear chun patrúin a chruthú ar dhromchla microcircuit.
Dá lú na heilimintí ar an microcircuit, is amhlaidh is cruinne a chaithfidh an próiseas fótalitagrafaíochta a bheith, rud a fhágann go dtiocfaidh méadú ar chostas trealaimh agus ábhar. Mar sin, cuimsíonn costas méadaithe an ghléasra méadú ar líon na n-uirlisí liteagrafaíocht EUV.
Ach admhaíonn fiú IBS go bhfuil nuances agus tírdhreach athraitheach de dhearadh sliseanna taobh thiar de na huimhreacha sin. Tugann an chuideachta faoi deara freisin go bhfuil ról na n-uirlisí EDA bunaithe ar AI ag éirí níos tábhachtaí i ndearadh IC, próisis a shimpliú agus costais a laghdú trí phróisis dhearaidh casta a uathoibriú agus feidhmíocht IC a bharrfheabhsú.
Léigh freisin: